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Intel大连工厂2007年奠基，2011年全面投产，这是Intel 1992年爱尔兰Fab 10之后新建的第一座晶圆厂，也是Intel在亚洲的第一座晶圆厂，初期总投资25亿美元，建筑面积16.3万平方米，其中洁净室厂房面积1.5万平方米。

大连工厂初期主要生产65nm工艺的芯片组等产品(不生产CPU处理器)，2015年追加投资55亿美元(Intel在中国最大的一笔)，升级为NVM非易失性存储制造工厂，主力生产NAND闪存，也是Intel全球同类工厂中最先进的之一。
 

2016年7月，大连厂升级后的一期项目投产，次年发布的DC P4500/P4600系列数据中心级固态盘就使用了这里出产的3D NAND。2018年9月，二期项目投产。目前，Intel最先进的96层3D闪存就是来自大连。

因为短时间内实现高能效生产，Intel大连厂曾两次获得全球制造业务线金奖，2012前年还拿到过Intel全球金奖，这在Intel还是首例。

Intel还曾公开赞扬大连厂，相信它是存储历史上投产最快的工厂之一。
 

大连厂特别注重对于本地人才的培养，投产初期就需安排了300多名员工到美国和爱尔兰专业培训，并指派200多名外籍员工来中国工作。目前，工厂关键高管的外籍、本地人才比例已经达到2:8，而在十年前还是7:3。

值得一提的是，Intel还是大连第一家披露环境绩效的企业，也是大连唯一实现100％餐厨垃圾无害化处理的企业。

（编辑：阜新站长网）

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