中芯国际年底量产7nm工艺？

今天，中芯国际相关人士详细解释了N+1工艺，也澄清了一些误会。

首先需要强调的是，N+1是中芯国际的内部代号，并不等于7nm。

据介绍，中芯国际N+1工艺在去年第四季度完成流片，目前正处于客户产品验证阶段，预计第四季度有限量产。

与市场上的7nm相比，中芯国际N+1在功耗、稳定性方面非常相似，唯一的区别就是性能，N+1的性能比14nm提高了约20%，但市场基准提升幅度是35%，所以有差距，但这也是唯一的差距。

如果是从功耗、稳定性方面而言，可以将中芯国际N+1称为7nm，而在性能方面确实要比7nm差。

中芯国际对N+1的目标是低成本应用，可以将成本相对市场上的7nm减少大约10%，因此是一个非常特殊的工艺节点。

从中芯国际的表态看，N+1更类似于台积电、三星的10nm，或者有点像三星的8nm，因为20%的性能提升幅度远低于台积电预计的30%、实际的35%。

至于N+2工艺，与市场7nm更为接近，尤其是稳定性，但是性能仍然略逊一筹。

另外随着台积电、三星陆续导入EUV极紫外光刻，中芯国际也在加速推进，但是梁孟松曾明确表示，

中芯国际无需EUV就能达成7nm，当然后续的5nm、3nm是必须要有EUV的。

（编辑：阜新站长网）

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